搜索信息

产品展示
首页 > 产品展示
首页 · 产品中心 · 气体过滤器 · 气体过滤器

气体过滤器

应用领域

产品参数

示意图片

产品系列

流量范围

过滤精度

核心滤材

适用场景

对标国际竞品

图片1.png

HPC-M

0~60slpm

≥0.003μm

双层疏水 PTFE 滤膜

超高纯工艺气(如光刻胶涂覆用 He 载气、刻蚀工艺反应气)

Entegris Wafergard® II F Micro

HPC-ML

0~120slpm

≥0.003μm

双层疏水 PTFE 滤膜

中高流量工艺气(如物理气相沉积 PVD、化学气相沉积 CVD 工艺气)

Pall Gaskleen® Light Series

图片2.png

HPC-N

0~600slpm

≥0.003μm

PTFE 滤膜

大宗气体(如干燥压缩空气、氮气吹扫气、仪表气)

Entegris Linegard™ MAX-FP

图片3.png

HPC-B

0~1000slpm

≥0.003μm

全氟内芯 + PTFE 滤膜

高杂质工艺气(如离子注入工艺气、扩散炉保护气)

Pall Gaskleen® V Series

图片4.png

HPC-Z

0~3000slpm

≥0.003μm

PTFE / 全氟内芯(可选)

超大流量大宗气(如半导体厂房集中供氮气、氢气主管道)

Entegris Linegard™ GIGAX-FP


核心优势

性能对标进口,无缝替代

  • 产品尺寸、接口类型(VCR/SWG/Butt Weld/C-seal 等)与 Entegris、Pall 同类产品完全一致,安装时无需修改原有管路,替换周期从进口产品的 7~10 天缩短至 1~2 天,避免生产线停机损失。

低阻力高流速,节能降耗

  • 创新优化滤膜结构设计,HPC-M 系列过滤面积比 Entegris Wafergard? II F Micro 大 15%,在同等流量(60slpm)下,压力损失比进口产品低 0.05MPa,每年可减少空压机等辅助设备能耗约 8%~10%。

高洁净出厂,快速启用

  • 全系列产品在万级洁净室(ISO 7 级)内完成组装、测试、包装,出厂前经过 100% 完整性测试(确保滤膜无破损)、100% 氦质谱检漏;客户安装后仅需 30 分钟快速吹扫,即可投入使用,相比进口产品(需 2~4 小时吹扫),节省启用时间 75%。

耐化学性强,适配全介质

  • 滤膜(PTFE)、中心杆(PFA)、O 型圈(TEV)均采用全氟材质,耐酸碱、耐有机溶剂,可适配半导体行业所有工艺气(包括腐蚀性气体如 HCl、NH3,及易燃气体如 SiH4),无需针对不同介质更换过滤器,降低设备管理成本。

立即询价

提供快速和个性化的服务

降低成本

实现自动化,降低人力成本和生产损耗

提供生产效率

提高您的生产率,通过全方位的过程监控,令生产过程稳定运行

提高产品质量

更高的精度和优异的表面,提升您的产品质量

安心生产

智能化设计,降低安全风险

*注意:请确保准确填写信息并保持沟通畅通。我们会尽快与您联系!

© 2026 HYPER PURITY TECH PTE. LTD.  All Rights Reserved.